发明名称 |
基板位置检测装置、基板处理装置和成膜装置 |
摘要 |
本发明提供一种基板位置检测装置、基板处理装置和成膜装置。一种基板位置检测装置,其是自设置于基板处理用的腔室的上表面的窗对腔室内部的规定的拍摄对象进行拍摄、并能根据该规定的拍摄对象的图像检测出基板的位置的基板位置检测装置,其具有:摄像装置,其设置得比上述窗靠上方,能自上述窗拍摄上述规定的拍摄对象;照明装置,其设置得比上述窗靠上方,能朝向上方照射光;照明反射板,其设置得比该照明装置靠上方,具有能将来自该照明装置的上述光朝向上述窗反射的反射面;以及照明反射限制部,其设置在该照明反射板的上述反射面上,用于在包含上述规定的拍摄对象在内的规定区域上形成影。 |
申请公布号 |
CN103887210A |
申请公布日期 |
2014.06.25 |
申请号 |
CN201310714507.9 |
申请日期 |
2013.12.20 |
申请人 |
东京毅力科创株式会社 |
发明人 |
相川胜芳 |
分类号 |
H01L21/67(2006.01)I;H01L21/68(2006.01)I;G01B11/00(2006.01)I;C23C16/458(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/67(2006.01)I |
代理机构 |
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 |
代理人 |
刘新宇;张会华 |
主权项 |
一种基板位置检测装置,其是自设置于基板处理用的腔室的上表面的窗对腔室内部的规定的拍摄对象进行拍摄、并能根据该规定的拍摄对象的图像检测出基板的位置的基板位置检测装置,其中,该基板位置检测装置具有:摄像装置,其设置得比上述窗靠上方,能自上述窗拍摄上述规定的拍摄对象;照明装置,其设置得比上述窗靠上方,能朝向上方照射光;照明反射板,其设置得比该照明装置靠上方,具有能将来自该照明装置的上述光朝向上述窗反射的反射面;以及照明反射限制部,其设置在该照明反射板的上述反射面上,用于在包含上述规定的拍摄对象在内的规定区域上形成影。 |
地址 |
日本东京都 |