发明名称 IN-SITU HYDROXYLATION APPARATUS
摘要 Described are apparatuses and methods for the hydroxylation of a substrate surface using ammonia and water vapor.
申请公布号 KR20140077192(A) 申请公布日期 2014.06.23
申请号 KR20147012106 申请日期 2012.02.03
申请人 APPLIED MATERIALS, INC. 发明人 CHOI KENRIC
分类号 H01L21/205;H01L21/02 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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