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发明名称
IN-SITU HYDROXYLATION APPARATUS
摘要
Described are apparatuses and methods for the hydroxylation of a substrate surface using ammonia and water vapor.
申请公布号
KR20140077192(A)
申请公布日期
2014.06.23
申请号
KR20147012106
申请日期
2012.02.03
申请人
APPLIED MATERIALS, INC.
发明人
CHOI KENRIC
分类号
H01L21/205;H01L21/02
主分类号
H01L21/205
代理机构
代理人
主权项
地址
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