摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Vorbeloten von Metallflächen auf metallisierten Substraten (1a, 1b), wobei Lot-Preformen (2a, 2b) auf die Metallflächen der Substrate (1a, 1b) gelegt werden oder umgekehrt und anschließend die Lot-Preformen (2a, 2b) aufgeschmolzen werden. Damit eine definierte gleichmäßige Höhe der Lotschicht erzielt wird und es nicht zur Bildung von aufgewölbtem Lot kommt und selbst dickere Lotschichten um 100 µm mit einer Dickenschwankung unter 20 µm bis zum Rand der Lotschicht erzeugt werden und eine Porenbildung in der Lotschicht minimiert wird, wird vorgeschlagen, dass beim Beloten bzw. Aufschmelzen auf die Lot-Preformen (2a, 2b) flach ein Metallgewebe (3a, 3b) gedrückt wird und das Metallgewebe (3a, 3b) aus einem nicht lotbenetzenden Material besteht.</p> |