发明名称 |
制造透明胞室分层结构的方法 |
摘要 |
制造透明胞室分层结构的方法包括:获得透明叠层结构,该叠层依次包括由光刻树脂构成的第一层、附加层和第二层,其中附加层吸收光刻方法中适于用来蚀刻第一层的树脂的射线;在第二层上形成掩模,该掩模限定待成形胞室的位置;选择性地移除由掩模限定的一部分第二层和附加层,从而在第二层和附加层中形成第一组胞室;将至少一种光学活性物质填充到第一组的胞室中;在掩模被移开后,穿过第二层和附加层照射由光刻树脂构成的第一层,从而选择性地,相对于第一层中与附加层的剩余部分对齐的部分,该第一层中位置与第一组胞室对齐的那部分变为永久凝固;对第一树脂层进行显影以形成第一树脂层中的第二组胞室;g)将光学活性物质填充入第二组的胞室中。 |
申请公布号 |
CN102681209B |
申请公布日期 |
2014.06.18 |
申请号 |
CN201210124170.1 |
申请日期 |
2007.12.20 |
申请人 |
埃西勒国际通用光学公司;国家科研中心 |
发明人 |
皮埃尔·沙韦尔;热罗姆·巴莱;克里斯蒂安·博韦;让·保罗·卡诺;保罗·勒菲亚斯特 |
分类号 |
G02C7/10(2006.01)I;G02C7/08(2006.01)I |
主分类号 |
G02C7/10(2006.01)I |
代理机构 |
北京市金杜律师事务所 11256 |
代理人 |
楼仙英;徐年康 |
主权项 |
一种制造透明胞室分层结构(100)的方法,该方法包括如下步骤:a)获得透明的叠层结构,该叠层依次包括:由光刻树脂构成的第一层(10)、附加层(21)和第二层(22),其中所述附加层(21)吸收光刻方法中适于用来蚀刻所述第一层的树脂的射线;b)在所述第二层(22)上形成掩模(30),该掩模限定了待成形胞室(1)的位置;c)选择性地移除由所述掩模(30)限定的一部分所述第二层(22)和附加层(21),从而在所述第二层和所述附加层中形成第一组的胞室(1);d)将至少一种光学活性物质填充到第一组的胞室(1)中;e)在掩模(30)被移开后,穿过第二层(22)和附加层(21)照射由光刻树脂构成的第一层(10),从而选择性地,相对于所述第一层(10)中与附加层的剩余部分(21a)对齐的部分,该第一层中位置与第一组的胞室(1)对齐的那部分变为永久凝固;f)对第一树脂层(10)进行显影,以形成第一树脂层中的第二组的胞室(1);以及g)将光学活性物质填充入第二组的胞室(1)中。 |
地址 |
法国沙朗通 |