| 发明名称 | 鳍结构制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种鳍结构制造方法。一示例方法可以包括：在衬底上形成初始鳍；在衬底上形成电介质层，以覆盖初始鳍；通过溅射，对电介质层平坦化处理；进一步电介质层进行回蚀，以露出初始鳍的一部分，该露出部分用作鳍。 | ||
| 申请公布号 | CN103854981A | 申请公布日期 | 2014.06.11 |
| 申请号 | CN201210505449.4 | 申请日期 | 2012.11.30 |
| 申请人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明人 | 朱慧珑;许淼;罗军;李春龙;王桂磊 |
| 分类号 | H01L21/28(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/28(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 倪斌 |
| 主权项 | 一种制造鳍结构的方法，包括：在衬底上形成初始鳍；在衬底上形成电介质层，以覆盖初始鳍；通过溅射，对电介质层平坦化处理；进一步电介质层进行回蚀，以露出初始鳍的一部分，该露出部分用作鳍。 | ||
| 地址 | 100083 北京市朝阳区北土城西路3号 | ||