发明名称 一种具有极化隧道结的GaN基LED外延片及其制备方法
摘要 一种具有极化隧道结的氮化镓GaN基LED外延片及其制备方法。该GaN基LED外延片由衬底、低温缓冲层、非掺杂氮化镓层、n型氮化镓层、量子阱层、p型铝镓氮层、p型氮化镓层、高掺杂p型氮化镓层和高掺杂n型氮化镓层组成,其特征在于在高掺杂p型氮化镓层和高掺杂n型氮化镓层之间有一非掺杂的铟铝氮层。本发明是利用MOCVD外延设备依次生长上述各层。高掺杂p型氮化镓层、非掺杂的铟铝氮层和高掺杂n型氮化镓层共同组成一个极化隧道结,取代了外延片p型氮化镓层上面的电流扩展层。该极化隧道结具有比普通隧道结在电流驱动下更高的极化电场,能显著提高载流子的隧穿几率以及横向电导率,从而减少压降和增强发光二极管的横向电流扩展,获取高光效的发光二极管。
申请公布号 CN103855263A 申请公布日期 2014.06.11
申请号 CN201410063659.1 申请日期 2014.02.25
申请人 广东省工业技术研究院(广州有色金属研究院) 发明人 贺龙飞;陈志涛;刘宁炀;赵维;张志清;张康;王巧;张娜;范广涵
分类号 H01L33/06(2010.01)I;H01L33/32(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I;H01S5/343(2006.01)I 主分类号 H01L33/06(2010.01)I
代理机构 广东世纪专利事务所 44216 代理人 千知化
主权项 一种具有极化隧道结的GaN基LED外延片,其结构由衬底(1)、低温缓冲层(2)、非掺杂氮化镓层(3)、n型氮化镓层(4)、量子阱层(5)、p型铝镓氮层(6)、p型氮化镓层(7)、高掺杂p型氮化镓层(8)和高掺杂n型氮化镓层(10)组成,其特征在于在高掺杂p型氮化镓层(8)和高掺杂n型氮化镓层(10)之间有一非掺杂的铟铝氮层(9),高掺杂p型氮化镓层(8)、非掺杂的铟铝氮层(9)和高掺杂n型氮化镓层(10)共同组成一个极化隧道结,极化隧道结的厚度小于20nm 。
地址 510651 广东省广州市天河区长兴路363号