| 发明名称 | 一种阵列基板及其制备方法、显示装置 | ||
| 摘要 | 本发明实施例提供了一种阵列基板及其制备方法、显示装置，涉及显示技术领域，可减少构图工艺次数。该阵列基板的制备方法包括：在衬底基板上通过构图工艺形成薄膜晶体管；在形成有薄膜晶体管的基板上通过一次构图工艺形成包括第一过孔的有机透明绝缘层和包括第二过孔的第一透明电极层；第一过孔和第二过孔重叠且第一过孔的尺寸小于第二过孔的尺寸。用于阵列基板的制造。 | ||
| 申请公布号 | CN103855087A | 申请公布日期 | 2014.06.11 |
| 申请号 | CN201410062127.6 | 申请日期 | 2014.02.24 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 严允晟;崔承镇 |
| 分类号 | H01L21/77(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I;G02F1/136(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/77(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人 | 申健 |
| 主权项 | 一种阵列基板的制备方法，其特征在于，包括：在衬底基板上通过构图工艺处理形成薄膜晶体管；在形成有所述薄膜晶体管的基板上，通过一次构图工艺处理形成包括第一过孔的有机透明绝缘层、以及位于所述有机透明绝缘层上方的包括第二过孔的第一透明电极层；其中，所述第一过孔和所述第二过孔重叠，且所述第一过孔的尺寸小于所述第二过孔的尺寸。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||