| 发明名称 | 一种化学机械抛光液 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种用于浅沟槽隔离工艺的化学机械抛光液，它含有一种二氧化硅磨料，一种或多种阴离子表面活性剂和水，该抛光液具有较高的高密度二氧化硅（HDP-Oxide）的去除速率以及较高的高密度二氧化硅（HDP-Oxide）对氮化硅的抛光选择比，对图形晶圆的台阶结构具有较高的校正能力，表面均一性较好。 | ||
| 申请公布号 | CN103834305A | 申请公布日期 | 2014.06.04 |
| 申请号 | CN201210479004.3 | 申请日期 | 2012.11.22 |
| 申请人 | 安集微电子（上海）有限公司 | 发明人 | 姚颖;荆建芬;王文龙 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | 一种化学机械抛光液，其特征在于，所述抛光液包含二氧化硅磨料，水以及一种或多种阴离子表面活性剂。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼602室 | ||