发明名称 |
用于互连结构的夹入式扩散阻挡和金属衬垫 |
摘要 |
在电介质层中开出沟槽。然后利用夹入式的扩散阻挡和金属衬垫结构对沟槽进行加衬。夹入式的扩散阻挡和金属衬垫结构包括夹在第一扩散阻挡层和第二扩散阻挡层之间的保形金属衬垫层。金属种子层至少是轻掺杂的。然后通过利用金属填充材料进行电镀来填充加衬的沟槽。然后在金属填充的沟槽上方沉积电介质帽层。然后使来自掺杂的金属种子层的掺杂剂迁移到金属填充的沟槽与电介质帽层之间的界面,以形成自对准金属帽。 |
申请公布号 |
CN103839882A |
申请公布日期 |
2014.06.04 |
申请号 |
CN201310533923.9 |
申请日期 |
2013.10.30 |
申请人 |
意法半导体公司;国际商业机器公司;格罗方德公司 |
发明人 |
牛成玉;A·H·西蒙;T·博洛姆 |
分类号 |
H01L21/768(2006.01)I;H01L23/538(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/768(2006.01)I |
代理机构 |
北京市金杜律师事务所 11256 |
代理人 |
王茂华;张宁 |
主权项 |
一种方法,包括:在介电层中开出沟槽;利用第一扩散阻挡层对所述沟槽进行加衬;利用第一保形金属衬垫层对所述沟槽进行加衬;利用第二扩散阻挡层对所述沟槽进行加衬;利用金属种子层对所述沟槽进行加衬;以及利用金属填充对所述沟槽进行填充。 |
地址 |
美国得克萨斯州 |