发明名称 |
一种具有P型埋层结构的槽栅二极管 |
摘要 |
一种具有P型埋层结构的槽栅二极管,属于半导体器件技术领域。包括N<sup>+</sup>衬底、背面的金属化阴极和正面的N<sup>-</sup>漂移区;N<sup>-</sup>漂移区顶部两侧之外是槽型栅电极和栅氧化层;N<sup>-</sup>漂移区顶部两侧分别具有一个N型重掺杂区,两N型重掺杂区之间具有一个P型重掺杂区;P型重掺杂区正下方具有两个以上相互间隔、均匀分布的条形P型埋层区;P型埋层区和P型重掺杂区之间具有若干间隔分布的P型柱区。P型埋层区、N型重掺杂区、栅氧层三者之间形成载流子积累区A,相邻两个P型埋层区之间的区域形成电子通路B。本发明通过引入一个P型埋层区,使得器件在不影响反向击穿电压和反向泄露电流的情况下,具有更小的导通压降、更短的反向恢复时间和极低的反向恢复峰值电流。 |
申请公布号 |
CN102593154B |
申请公布日期 |
2014.06.04 |
申请号 |
CN201210049388.5 |
申请日期 |
2012.02.29 |
申请人 |
电子科技大学;东莞电子科技大学电子信息工程研究院 |
发明人 |
李泽宏;赵起越;余士江;张金平;任敏;张波 |
分类号 |
H01L29/06(2006.01)I;H01L29/861(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/06(2006.01)I |
代理机构 |
电子科技大学专利中心 51203 |
代理人 |
葛启函 |
主权项 |
一种具有P型埋层结构的槽栅二极管,其结构包括N<sup>+</sup>衬底(2),位于N<sup>+</sup>衬底(2)背面的金属化阴极(1),位于N<sup>+</sup>衬底(2)正面的N<sup>-</sup>漂移区(3)和位于整个二极管顶层的金属化阳极(9);在N<sup>-</sup>漂移区(3)的顶部两侧之外分别具有一个槽型栅电极(5),两个槽型栅电极(5)与N<sup>-</sup>漂移区(3)之间分别通过各自的二氧化硅栅氧化层(4)相隔离;在N<sup>-</sup>漂移区(3)的顶部两侧分别具有一个条形N型重掺杂区(7),两个条形N型重掺杂区(7)之间具有一个条形P型重掺杂区(8);在条形P型重掺杂区(8)下方、且位于两个二氧化硅栅氧化层(4)中间区域的N<sup>-</sup>漂移区(3)中具有至少两个以上相互间隔、且均匀分布的条形P型埋层区(6);在条形P型埋层区(6)和条形P型重掺杂区(8)之间具有若干间隔分布、且与条形P型埋层区(6)和条形P型重掺杂区(8)分别相连的P型柱区(10),且P型柱区(10)底部只与条形P型埋层区(6)、顶部只与条形P型重掺杂区(8)相连;金属化阳极(9)覆盖于两个条形N型重掺杂区(7)、条形P型重掺杂区(8)和两个槽型栅电极(5)表面。 |
地址 |
611731 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号 |