发明名称 QFN 框架制作方法
摘要 本发明提供一种QFN框架制作方法,包括步骤:S101:提供一定厚度的金属片条;S102:在所述金属片条的正面和背面镀感光材料,之后在金属片条的正面和背面分别进行掩膜;S103:对金属片条正面和背面分别进行光刻,以在正面形成一定密度分布的金属布线、且在背面形成金属凸点;S104:将芯片与金属布线电连接,并用塑封底填料将芯片固定和封装在金属片条上;S105:将金属片条背面腐蚀直至分隔开正面的不同金属布线。本发明提供的QFN框架制作方法,既可以在金属的正面进行布线,又可以以节约快捷的方法完成金属背面凸点的形成,成本较低,具有较好的实际操作性,并且封装体的厚度也适应了越来越薄的趋势。
申请公布号 CN103824782A 申请公布日期 2014.05.28
申请号 CN201410043037.2 申请日期 2014.01.29
申请人 南通富士通微电子股份有限公司 发明人 张卫红;张童龙
分类号 H01L21/48(2006.01)I 主分类号 H01L21/48(2006.01)I
代理机构 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 11435 代理人 孟阿妮
主权项 一种QFN框架制作方法,其特征在于,包括步骤:S101:提供一定厚度的金属片条;S102:在所述金属片条的正面和背面镀感光材料,之后在金属片条的正面和背面分别进行掩膜;S103:对金属片条正面和背面分别进行光刻,以在正面形成一定密度分布的金属布线、且在背面形成金属凸点;S104:将芯片与金属布线电连接,并用塑封底填料将芯片固定和封装在金属片条上;S105:将金属片条背面腐蚀直至分隔开正面的不同金属布线。
地址 226006 江苏省南通市崇川区崇川路288号