发明名称 |
具有流体坑限制表面特征的分配头 |
摘要 |
提供了涉及流体分配头的方法和设备。分配头被形成为限定出多个流体喷射喷嘴和表面图案。所述表面图案的特征在于从分配头的外表面向内延伸的一个或多个空隙。在分配头的操作期间形成的流体坑经由表面图案在体积上受到限制。流体坑限制会减少或消除对实体的分配误差、非所需伪影在打印介质上的形成或类似问题。 |
申请公布号 |
CN103826859A |
申请公布日期 |
2014.05.28 |
申请号 |
CN201180073804.9 |
申请日期 |
2011.09.30 |
申请人 |
惠普发展公司,有限责任合伙企业 |
发明人 |
T.斯特兰德;J.尼尔森;J.费恩;S.利 |
分类号 |
B41J2/175(2006.01)I;B41J2/135(2006.01)I;B41J2/14(2006.01)I |
主分类号 |
B41J2/175(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
李涛;何逵游 |
主权项 |
一种分配头,包括:限定出流体喷射喷嘴的材料,所述材料进一步限定出与所述流体喷射喷嘴间隔开的表面图案,所述表面图案被构造成限制在操作期间在所述材料的外表面上形成的流体坑的体积。 |
地址 |
美国德克萨斯州 |