化合物、包含所述化合物的共聚物和包含所述共聚物的抗蚀剂保护膜组合物

摘要

本发明提供下式(1)表示的化合物，包括下式(1-a)表示的重复单元的共聚物和包含所述共聚物的抗蚀剂保护膜组合物。当使用所述抗蚀剂保护膜组合物时，所得到的抗蚀剂保护膜具有充分的透光率，不易于与抗蚀剂膜混杂，具有合适的亲水性或疏水性，不表现出图案形状变差的现象，易溶解于碱性显影剂溶液，并减少在浸没式或干式曝光过程的过程中各种缺陷的出现。其中，在在式(1)和式(1-a)中，R₁₁、R₂₁和R₂₂每个独立地表示氢原子、卤原子等；R₁表示烷基、杂烷基等；R₂表示氢原子或烷基；并且Q₁和Q₂每个独立地表示选自以下的任意一种：氢原子和卤原子。

主权项

1.抗蚀剂保护膜组合物，其包含共聚物，其中所述共聚物包括下式(1-a)表示的重复单元的共聚物；以及选自式(4-a)、式(5-a)、式(7-a)及它们的组合中任意一个表示的重复单元：[式1-a]其中，R₁₁、R₂₁和R₂₂每个独立地表示选自以下的任意一种：氢原子、卤原子、1-8个碳原子的烷基和1-5个碳原子的卤代烷基；R₁表示1-10个碳原子的烷基；R₂表示氢原子；并且，Q₁和Q₂每个独立地表示卤原子；其中式(1-a)表示的重复单元的摩尔比m为0.01≤m≤0.6，选自式(4-a)、式(5-a)、式(7-a)及它们的组合中任意一个表示的重复单元的摩尔比l为0.4≤l≤0.99，并且m和l的总和为1。