发明名称 一种镁合金表面制备微弧氧化陶瓷膜层的方法
摘要 本发明涉及一种镁合金表面制备微弧氧化陶瓷膜层的方法,通过控制微弧氧化电源的占空比、频率,可以有效的调节微弧氧化膜层中的孔隙含量和孔隙大小,进而控制微弧氧化膜层的硬度;同时,通过压缩空气搅拌系统可使微弧氧化过程中分散热量,防止溶液局部过热。本发明可以保证微弧氧化陶瓷膜层外观均匀连续、一致,膜层硬度控制在HV400以上,耐盐雾时间1000小时以上,同时膜层与基体结合强度达到40MPa以上。 
申请公布号 CN103789810A 申请公布日期 2014.05.14
申请号 CN201410017247.4 申请日期 2014.01.15
申请人 哈尔滨东安发动机(集团)有限公司 发明人 孙忠武;师玉英;张旭;田;吴彦芬;张彦飞
分类号 C25D11/30(2006.01)I;C25D21/10(2006.01)I 主分类号 C25D11/30(2006.01)I
代理机构 中国航空专利中心 11008 代理人 杜永保
主权项 一种镁合金表面制备微弧氧化陶瓷膜层的方法,其特征是,所述的方法包括以下步骤:(1)除油:对零件表面进行净化处理,采用丙酮或酒精对零件的待微弧氧化表面进行擦洗,将表面的油污除去;(2)防护:采用保护装置将零件的非微弧氧化表面进行防护;(3)配制微弧氧化溶液:微弧氧化溶液的配制方法为在水中依次加入1~3g/L的氢氧化钠、 13~17g/L的硅酸钠、2~4g/L的氟化钠和1~3g/L的四硼酸钠,并充分溶解后再加入微弧氧化主槽; (4)连接:将微弧氧化表面全部浸入微弧氧化槽液中,用导线将零件和微弧氧化设备的阳极连接,连接的原则为:保证将不氧化部位绝缘,所有导电部位接触良好,同时不产生压气现象;(5)微弧氧化:微弧氧化的参数为:温度                            16℃~22℃电流密度                    0.9A/dm<sup>2</sup>±0.1A/dm<sup>2</sup>时间                            50min~70min频率                            1000HZ占空比                        正向50%;负向50%阴极                            不锈钢板      在整个微弧氧化过程中槽液底部采用洁净干燥的压缩空气搅拌,采用聚四氟循环冷却管装置控制槽液温度,微弧氧化完成后,停止冷却;然后将零件从阳极上卸下;(6)水洗:使用自来水冲洗零件表面,冲洗至零件水膜连续均匀、不断裂为止;(7)吹干: 采用洁净干燥的压缩空气吹干零件表面,去除零件表面的保护装置;(8)封孔:采用封孔剂对微弧氧化后的微孔进行封孔;(9)最终检验。
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