ITO表面化学镀镍镀金前表面清洁的方法

摘要

一种在ITO表面化学镀镍镀金前表面清洁的方法，其特征是将氟化铵、氟化氢铵及缓冲剂按一定比例混溶于去离子水中配成清洁溶液，基片用夹具装夹后浸没于清洁溶液中，根据基片表面污染程度选择合适的浸没时间，彻底去除ITO表面引线间玻璃上的污染物并使ITO刚刚露出新鲜的表面。这样清洁处理后再在ITO表面进行镍层和金层沉积时，镍层和金层只沉积于ITO表面，而在其它地方无法沉积，这就消除了因基片表面污染而造成的产品缺陷问题，大大提高了采用化学镀镍镀金方法制造Sensor产品的良率。同时因镍层和金层是沉积于新鲜的ITO表面，而非脏或异物表面，这样镍层和金层与ITO之间的结合力非常强，不会产生镍层和金层与ITO之间脱落问题，产品使用的耐久性可以得到保证。

主权项

一种ITO表面化学镀镍镀金前表面清洁的方法，其特征是：a) 首先将氟化铵、氟化氢铵及缓冲剂按一定比例混溶于去离子水中配成ITO表面化学镀镍镀金前表面清洁溶液； b) 将要化学镀镍镀金的基片装夹于夹具中，装好后将夹具整个浸没于上述清洁溶液中；c) 根据基片表面污染程度决定基片在清洁溶液中的浸没时间，如基片较脏，则浸没时间可长一些；d) 将完成清洁的基片进行脱脂→二次去离子水清洗→微蚀→二次去离子水清洗→催化→二次去离子水清洗→活化→二次去离子水清洗处理； e) 将上述完成预处理的基片进行化学镀镍→二次去离子水清洗→化学镀金→二次热去离子水清洗；f) 完成化学镀镍镀金的基片进行检验、烘干，基片烘干后流水至检测工序。