用于直线型大面积等离子体反应器中均匀处理的气体输送和分配

摘要

本发明提供一种用于引入气体到处理腔室中的装置，所述处理腔室包含具有气体注入孔的一或多个气体分配管，所述气体注入孔可在需要通过气体注入孔更大气体传导的气体引入管的管段处尺寸更大、数目更多，和/或彼此间隔更紧密。具有较大气体注入孔的外部管可围绕每一气体分配管。气体分配管可流体连接到真空前极管道，以促进在制程循环结束时从气体分配管去除气体。

主权项

一种气体分配系统，包含：气体分配管，具有一或多个来源气体引入口和数个孔，其中来源气体被送入所述气体分配管的至少一个部分中，且其中所述气体分配管具有沿着所述气体分配管来自每一孔的大体上相等的来源气流。