| 发明名称 | 蒸镀掩膜、蒸镀掩膜的制造方法及薄膜图案形成方法 | ||
| 摘要 | 本发明是用于在基板上蒸镀形成一定形状的薄膜图案的蒸镀掩膜，该蒸镀掩膜构成为具备透射可见光的树脂制的膜，该树脂制的膜对应于预先在所述基板上确定的所述薄膜图案的形成区域，形成了与该薄膜图案的形状尺寸相同的贯通的开口图案。 | ||
| 申请公布号 | CN103797149A | 申请公布日期 | 2014.05.14 |
| 申请号 | CN201280044893.9 | 申请日期 | 2012.09.14 |
| 申请人 | 株式会社V技术 | 发明人 | 杉本重人;梶山康一;水村通伸;工藤修二;木村江梨子;哈尼·马赫·阿齐兹;梶山佳敬 |
| 分类号 | C23C14/04(2006.01)I;C23C14/24(2006.01)I;H01L51/50(2006.01)I;H05B33/10(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人 | 肖华 |
| 主权项 | 一种蒸镀掩膜，其是用于在基板上蒸镀形成一定形状的薄膜图案的蒸镀掩膜，其特征在于，该蒸镀掩膜构成为具备透射可见光的树脂制的膜，该树脂制的膜对应于预先在所述基板上确定的所述薄膜图案的形成区域，形成了与该薄膜图案的形状尺寸相同的贯通的开口图案。 | ||
| 地址 | 日本国神奈川县横浜市 | ||