发明名称 以胶态氧化矽为基础的化学机械抛光淤浆
摘要
申请公布号 TWI437060 申请公布日期 2014.05.11
申请号 TW094129667 申请日期 2005.08.30
申请人 平面解决方案有限公司 美国 发明人 莫耶特斯 杰特R. M. MOYAERTS, GERT R. M. BE;达尔柏瑞吉 肯A. DELBRIDGE, KEN A. US;寇特兹 尼考尔R. KOONTZ, NICOLE R. US;莫圣尼 塞德H. MOHSENI, SAEED H. US;塞里斯 杰洛米J. SAYLES, GEROME J. US;马休理克 狄帕克
分类号 C09G1/02 主分类号 C09G1/02
代理机构 代理人 恽轶群 台北市松山区南京东路3段248号7楼;陈文郎 台北市松山区南京东路3段248号7楼
主权项
地址 美国