发明名称 一种用于在电容式触摸屏ITO走线上的化学镀镍方法
摘要 本发明提供用于在电容式触摸屏ITO走线上的新型化学镀镍方法。与现有真空溅射技术相比,设备投资少,生产成本低,效率高。与非金属基体上的传统化学镀镍工艺相比,本发明中的溶液具有更好的稳定性与选择性。其步骤为:将ITO薄膜玻璃依次经过除油、刻蚀、敏化、活化、还原、化学镀镍过程。其关键在于敏化时采用含有Cu<sup>+</sup>的敏化液以增加针对ITO薄膜的选择性,且比传统的Sn<sup>2+</sup>敏化液更加稳定;刻蚀时采用含有S<sub>2</sub>O<sub>8</sub><sup>2-</sup>或HS<sub>2</sub>O<sub>8</sub><sup>-</sup>的蚀刻液以平稳刻蚀过程、改善刻蚀效果;化学镀镍采用55~65℃的低温施镀,镀液稳定,镀层平整致密。结果表明,该方法易操作、速度快;ITO表面镍层覆盖完整、附着力好,玻璃基体无镍层覆盖,具有高度选择性。
申请公布号 CN102776495B 申请公布日期 2014.05.07
申请号 CN201210243312.6 申请日期 2012.07.13
申请人 南京航空航天大学 发明人 梅天庆;任春春
分类号 C23C18/32(2006.01)I;C23C18/18(2006.01)I 主分类号 C23C18/32(2006.01)I
代理机构 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人 李纪昌
主权项 一种用于在电容式触摸屏ITO走线上的化学镀镍方法,其特征在于以下化学镀镍步骤:(1)除油:将ITO薄膜玻璃放入乙醇溶液中超声清洗1‑5分钟,再放入除油液中,除油液配方包括10‑25g/L NaOH、10‑40g/L Na<sub>3</sub>PO<sub>4</sub>、20‑30g/L Na<sub>2</sub>CO<sub>3</sub>、10‑15g/L硅酸钠、1‑3g/L OP乳化剂、去离子水,然后在20‑40℃条件下超声除油3‑15分钟,再用自来水冲洗,再用去离子水清洗;(2)刻蚀:将除油后的ITO薄膜玻璃放入蚀刻液中,蚀刻液配方包括40g/L Na<sub>2</sub>SO<sub>4</sub>、0.5mL‑3ml/L浓H<sub>2</sub>SO<sub>4</sub>、2‑7g/L NH<sub>4</sub>HF<sub>2</sub>、10‑30g/L柠檬酸、去离子水,还包括20‑60g/L过二硫酸盐或过二硫酸氢盐;然后在20‑40℃条件下粗化2‑7分钟,再将ITO薄膜玻璃放入去离子水中并超声清洗1‑3分钟;(3)敏化:将刻蚀后的ITO薄膜玻璃放入敏化液中,敏化液配方包括敏化液的配方包括5‑25mL/L乙二胺或4.0‑8.0g/L联吡啶或4.5‑12.4g/L NaCN或6.0‑16.5g/LKCN或1.5‑4.2g/L硫脲、NaOH或HCl、去离子水,还包括2‑6g/L亚铜盐;然后在20‑40℃条件下敏化4‑8分钟,再将ITO薄膜玻璃放入去离子水中浸洗1‑2分钟;(4)活化:将敏化后的ITO薄膜玻璃放入活化液中,活化液配方包括0.1‑0.3g/L PdCl<sub>2</sub>、2‑4mL/L HCl、去离子水,然后在20‑40℃条件下活化4‑8分钟,然后将ITO薄膜玻璃放入去离子水中浸洗1‑2分钟;(5)还原:将活化后的ITO薄膜玻璃放入还原液中,还原液配方包括10‑20g/L NaH<sub>2</sub>PO<sub>2</sub>·H<sub>2</sub>O、去离子水,然后在室温下还原20‑50秒,在去离子水中浸洗1‑2分钟;(6)化学镀镍:将还原后的ITO薄膜玻璃放入化学镀液中,化学镀液配方包括28g/L NiSO<sub>4</sub>·7H<sub>2</sub>O、30g/L柠檬酸三钠、26g/L NaH<sub>2</sub>PO<sub>2</sub>·H<sub>2</sub>O、15g/L乙酸钠、2‑2.4g/L聚乙二醇、稳定剂、光亮剂、去离子水,用柠檬酸调节pH=4.6‑5.2,然后在50‑65℃条件下施镀1‑6分钟,后用自来水清洗,再用去离子水清洗,最后吹干或烘干,至此即可制得在ITO上镀有附着力良好的镍金属层。
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