发明名称 一种直接淬火浅层渗碳方法
摘要 一种直接淬火浅层渗碳方法,步骤一,在炉温为800℃的温度下,往渗碳炉内滴入渗碳剂排气;步骤二,将炉温升至910℃保温1h;步骤三,将渗碳部件分散悬挂于渗碳炉内,大量滴入渗碳剂迅速排气,并持续滴入渗碳剂保持炉内碳势0.95;步骤四,保持910℃1h进行渗碳;步骤五,取出渗碳部件置入油槽中,降温至50℃时,取出清洗;步骤六,清洗后在200℃下进行回火,回火时间2h,本发明能够提高部件的耐磨和抗拉性能,同时避免了二次淬火、高温回火所带来的表面氧化和脱碳现象。<!--1-->
申请公布号 CN103774083A 申请公布日期 2014.05.07
申请号 CN201210398496.3 申请日期 2012.10.18
申请人 西安交大京盛科技发展有限公司 发明人 田边
分类号 C23C8/20(2006.01)I;C23C8/22(2006.01)I;C21D1/18(2006.01)I;C23F17/00(2006.01)I 主分类号 C23C8/20(2006.01)I
代理机构 西安智大知识产权代理事务所 61215 代理人 刘国智
主权项 一种直接淬火浅层渗碳方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤一,在炉温为800℃的温度下,往渗碳炉内滴入渗碳剂排气;步骤二,将炉温升至910℃保温1h;步骤三,将渗碳部件分散悬挂于渗碳炉内,大量滴入渗碳剂迅速排气,并持续滴入渗碳剂保持炉内碳势0.95;步骤四,保持910℃1h进行渗碳;步骤五,取出渗碳部件置入油槽中,降温至50℃时,取出清洗;步骤六,清洗后在200℃下进行回火,回火时间2h。
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