| 发明名称 | 研磨垫 | ||
| 摘要 | 一种至少具有研磨层的化学机械研磨用的研磨垫，在所述研磨层的研磨面具有第一槽以及第二槽，所述第一以及第二槽在各自的槽宽方向的缘端部具有与所述研磨面连续的侧面，在所述第一槽中，至少在槽宽方向的一侧的缘端部处，所述研磨面和与该研磨面连续的侧面所成的角度比105度大且为150度以下，在所述第二槽中，在槽宽方向的两个缘端部双方，所述研磨面和与该研磨面连续的侧面所成的角度为60度以上且105度以下。 | ||
| 申请公布号 | CN103782372A | 申请公布日期 | 2014.05.07 |
| 申请号 | CN201280044813.X | 申请日期 | 2012.09.13 |
| 申请人 | 东丽株式会社 | 发明人 | 野呂阳平;奥田良治;福田诚司 |
| 分类号 | H01L21/304(2006.01)I;B24B37/26(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/304(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 肖日松;李婷 |
| 主权项 | 一种研磨垫，其为至少具有研磨层的化学机械研磨用的研磨垫，其特征在于：在所述研磨层的研磨面具有第一槽以及第二槽，所述第一以及第二槽在各自的槽宽方向的缘端部具有与所述研磨面连续的侧面，在所述第一槽中，至少在槽宽方向的一侧的缘端部处，所述研磨面和与该研磨面连续的侧面所成的角度比105度大且为150度以下，在所述第二槽中，在槽宽方向的两个缘端部双方，所述研磨面和与该研磨面连续的侧面所成的角度为60度以上且105度以下。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||