| 摘要 |
<p>본 발명은, 이온 밀링 장치의 이온원(1)과 시료(7)의 사이에서 시료에 접촉하는 위치에 배치되는 차폐판(8, 10)으로서, 상기 차폐판은, 중심에 개구를 갖는 원형이고, 상기 개구를 통과하는 축(11)에 대해 회전할 수 있는 것을 특징으로 한다. 그리고 상기 차폐판의 단부의 상기 이온원측의 면에는 홈을 형성하고, 또한, 상기 차폐판의 단부에는 경사면을 설치하였다. 이에 의해, 가공 가능 횟수를 늘리고, 차폐판 위치 조정을 정밀도 높게 행할 수 있는 차폐판을 갖는 이온 밀링 장치를 제공하는 것이 가능하게 되었다.</p> |
