发明名称 |
原子层淀积设备和装载方法 |
摘要 |
本发明涉及原子层淀积设备和装载方法,其中,多个ALD反应器相对于彼此成一式样地放置,每个所述ALD反应器能够接收一批用于ALD处理的基底,且每个所述ALD反应器包括能够从顶部接近的反应室。利用装载机器人执行多个装载序列。每个所述装载序列包括:拾取位于存储区域或架中的带有一批基底的基底保持器;以及将带有所述一批基底的所述基底保持器移入目标ALD反应器的所述反应室中。 |
申请公布号 |
CN102112655B |
申请公布日期 |
2014.05.07 |
申请号 |
CN200980130603.0 |
申请日期 |
2009.07.07 |
申请人 |
皮考逊公司 |
发明人 |
S·林德弗斯;J·A·K-A·鲍蒂艾南 |
分类号 |
C23C16/455(2006.01)I;C23C16/458(2006.01)I;C23C16/54(2006.01)I;C30B25/02(2006.01)I;H01L21/28(2006.01)I;H01L21/314(2006.01)I |
主分类号 |
C23C16/455(2006.01)I |
代理机构 |
北京市金杜律师事务所 11256 |
代理人 |
苏娟 |
主权项 |
一种竖直流原子层淀积(ALD)反应器系统,包括:多个竖直流ALD反应器,所述多个竖直流ALD反应器相对于彼此成一式样地放置;每个所述竖直流ALD反应器能够接收一批用于竖直流ALD处理的基底,每个所述竖直流ALD反应器包括真空室和使得真空室盖和反应室盖结合形成的盖系统,真空室容纳能够从顶部接近的反应室;以及装载机器人,其包括抓持部分和运动机构,所述装载机器人能够执行多个装载序列,以从所述反应室的顶部装载所述多个竖直流ALD反应器中的每一个的反应室,每个所述装载序列包括:将盖系统提升至上部位置;通过所述抓持部分拾取位于存储区域或架中的承载有一批基底的基底保持器;以及通过所述运动机构将带有所述一批基底的所述基底保持器从反应室顶部移入目标竖直流ALD反应器的所述反应室中。 |
地址 |
芬兰埃斯波 |