制作掩膜版的方法、对布局图形进行光学邻近修正方法

摘要

一种制作掩膜版的方法、对布局图形进行光学邻近修正方法，制作掩膜版的方法包括：提供布局图形；将布局图形分割成第一布局图形和第二布局图形；在所述第一布局图形的切割位置形成第一延伸段；在第二布局图形的切割位置形成第二延伸段；执行对第一布局图形和第一延伸段的光学邻近修正，获得第一修正图形，第一修正图形在图形化仿真后包围第二延伸段所在区域；执行对第二布局图形和第二延伸段的光学邻近修正，获得第二修正图形，第二修正图形在图形化仿真后包围第一延伸段所在区域；将第一修正图形写入第一掩膜版；将第二修正图形写入第二掩膜版。图形化时在叠加位置处，图形的宽度和目标宽度相等，至少图形宽度与图形目标宽度之间的差距缩小。

主权项

一种制作掩膜版的方法，其特征在于，包括：提供布局图形；将所述布局图形分割成第一布局图形和第二布局图形；在所述第一布局图形的切割位置形成第一延伸段；在所述第二布局图形的切割位置形成第二延伸段；执行对第一布局图形和第一延伸段的光学邻近修正，获得第一修正图形，所述第一修正图形在图形化仿真后包围第二延伸段所在区域；执行对第二布局图形和第二延伸段的光学邻近修正，获得第二修正图形，所述第二修正图形在图形化仿真后包围第一延伸段所在区域；将第一修正图形写入第一掩膜版；将第二修正图形写入第二掩膜版；其中，执行对第一布局图形和第一延伸段的光学邻近修正包括：步骤S11，对第一布局图形和第一延伸段进行图形化仿真，获得仿真图形；步骤S12，计算仿真图形与第一布局图形的第一边缘布置误差，以及仿真图形与第二延伸段重叠区域的第二边缘布置误差；步骤S13，根据计算得到的第一、第二边缘布置误差，对第一布局图形和第一延伸段进行光学邻近修正，得到修正后图形；步骤S14，对修正后图形进行图形化仿真，获得仿真图形；步骤S15，判断步骤S14中获得的仿真图形是否包围第二延伸段所在区域，若是，将修正后图形作为第一修正图形；若否，返回执行步骤S12；执行对第二布局图形和第二延伸段的光学邻近修正包括：步骤S21，对第二布局图形和第二延伸段进行图形化仿真，获得仿真图形；步骤S22，计算仿真图形与第二布局图形的第三边缘布置误差，以及仿真图形与第一延伸段重叠区域的第四边缘布置误差；步骤S23，根据计算得到的第三、第四边缘布置误差，对第二布局图形和第二延伸段进行光学邻近修正，得到修正后图形；步骤S24，对修正后图形进行图形化仿真，获得仿真图形；步骤S25，判断步骤S24中获得的仿真图形是否包围第一延伸段所在区域，若是，将修正后图形作为第二修正图形；若否，返回执行步骤S22。