发明名称 FILM FORMATION AND VACUUM PROCESSING METHOD FOR PERFORMING CLEANING
摘要 <p>대기 상태의 처리 장치에 클리닝 처리시키면서, 동작 상태의 처리 장치로 일정 간격으로 기판을 진공 처리시킨다. 일정한 처리 시간 T 의 진공 처리를 반복하는 동작 개수 m 개의 동작 주기를, 1 진공 처리의 1 처리 개시 시각이 T/m 씩 상이하도록 설정하고, 기준으로 한 동작 조건의 연속 처리 개시 시각으로부터, 다른 동작 주기의 연속 처리 개시 시각을, 지연 시간 (n·T+T/m) (n 은 1 이상의 정수) 씩 지연시켜, 연속 처리 횟수 N 장의 처리를 실시하면, 동작 상태에서 대기 상태로 변경되어, 클리닝 처리가 종료된 처리 장치와 교대시킨다. 대기 상태 중에 클리닝 처리가 실시되므로, 길이가 시간 차 T/m 과 동일한 길이의 반입 간격으로 반입되는 기판을 지체없이 진공 처리할 수 있다.</p>
申请公布号 KR101392024(B1) 申请公布日期 2014.05.07
申请号 KR20127010000 申请日期 2010.10.15
申请人 发明人
分类号 C23C14/34;C23C16/44;H01L21/31 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人
主权项
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