发明名称 基板处理方法及基板处理装置
摘要
申请公布号 TWI436421 申请公布日期 2014.05.01
申请号 TW100127317 申请日期 2011.08.02
申请人 东京威力科创股份有限公司 日本 发明人 宇贺神肇;户泽茂树
分类号 H01L21/3065;H01L21/316;H01L21/318;H01L21/673;H01L21/677;H01L21/683 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人 林秋琴 台北市大安区敦化南路1段245号8楼;何爱文 台北市大安区敦化南路1段245号8楼
主权项
地址 日本