| 发明名称 | 薄膜图案的制造方法、显示基板 | ||
| 摘要 | 本发明提供薄膜图案的制造方法、显示基板，涉及显示技术领域。在显示基板的生产和加工过程中，能够避免掩膜板的使用。通过在基板上形成待图案化的第一薄膜层，并在该第一薄膜层的表面形成第一覆盖层，通过光束熔损的方法形成第一覆盖层图案，然后将上述第一覆盖层图案未覆盖的第一薄膜层去除掉，从而形成第一薄膜层图案。 | ||
| 申请公布号 | CN103760749A | 申请公布日期 | 2014.04.30 |
| 申请号 | CN201410015561.9 | 申请日期 | 2014.01.14 |
| 申请人 | 北京京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 徐利燕;田明;王俊伟 |
| 分类号 | G03F7/00(2006.01)I;G02F1/1333(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人 | 申健 |
| 主权项 | 一种薄膜图案的制造方法，其特征在于，包括：在基板上形成待图案化的第一薄膜层；在所述第一薄膜层的表面形成第一覆盖层；通过光束熔损形成第一覆盖层图案；去除所述第一覆盖层图案未覆盖的所述第一薄膜层，形成第一薄膜层图案。 | ||
| 地址 | 100176 北京市大兴区经济技术开发区经海一路118号 | ||