一种用于半导体热处理设备温度的监控方法及系统

摘要

一种用于半导体热处理设备温度的监控方法，该方法包括：设置并获取配置文件；在工艺过程中，发送温度控制的指令和开启异步监控线程；获取所述热电偶监测温度的实际值，并根据产生警告范围值和产生终止范围值，判断超出所述产生警告范围值或产生终止范围值的时长是否达到所述异常稳定时间的规定值；如果是，判断所述超出次数是否大于所述异常稳定时间的次数，如果是，故障报警并执行相应的故障处理；如果不是，继续执行正常的工艺步骤。因此，本发明考虑了控制响应时间的滞后性问题，也根据控温的要求来定义异常情况的尺度，并排除了因温度的正常波动或信号干扰带来的错误处理的符合温度变化特性。

主权项

一种用于半导体热处理设备温度的监控方法，所述半导体热处理设备中包括至少一个控温区，所述控温区包括热电偶和加热单元，其特征在于，所述方法具体包括：步骤S1：设置并获取配置文件，其中，所述配置文件的配置项包括监测延时时间、产生警告范围值、产生终止范围值、异常稳定时间和/或异常稳定时间次数；步骤S2：在工艺过程中，发送温度控制的指令和开启异步监控线程；步骤S3：获取所述热电偶监测温度的实际值，并根据产生警告范围值和产生终止范围值，判断超出所述产生警告范围值或产生终止范围值的时长是否达到所述异常稳定时间的规定值；步骤S4：如果是，判断所述超出次数是否大于所述异常稳定时间的次数，如果是，故障报警并执行相应的故障处理；如果不是，继续执行步骤S3。