发明名称 |
一种静电放电保护结构 |
摘要 |
本发明公开一种静电放电保护结构,包括一衬底,P阱、N阱,N阱内包括第一N型注入区、第一P型注入区、第二N型注入区的一部分,且三者之间用氧化硅隔离;P阱内从N阱端开始依次包括所述第二N型注入区的另一部分、第三N型注入区、第二P型注入区、第四N型注入区、第三P型注入区,其中第三N型注入区、第二P型注入区、第四N型注入区、第三P型注入区之间用氧化硅隔离,第二N型注入区的另一部分和第三N型注入区之间的表面设有多晶硅栅极,第一P型注入区、第一N型注入区、第四N型注入区连接被保护管脚,多晶硅栅极、第三N型注入区、第二P型注入区、第三P型注入区接地端。本发明结构简单,且具有很高的正向和反向静电放电防护能力。 |
申请公布号 |
CN103745976A |
申请公布日期 |
2014.04.23 |
申请号 |
CN201410016868.0 |
申请日期 |
2014.01.15 |
申请人 |
帝奥微电子有限公司 |
发明人 |
吕宇强 |
分类号 |
H01L27/02(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/02(2006.01)I |
代理机构 |
上海宏威知识产权代理有限公司 31250 |
代理人 |
金利琴 |
主权项 |
一种静电放电保护结构,其特征在于:包括一衬底,P阱、N阱,所述N阱内包括第一N型注入区、第一P型注入区、第二N型注入区的一部分,且三者之间用氧化硅隔离;所述P阱内从N阱端开始依次包括所述第二N型注入区的另一部分、第三N型注入区、第二P型注入区、第四N型注入区、第三P型注入区,其中第三N型注入区、第二P型注入区、第四N型注入区、第三P型注入区之间用氧化硅隔离,所述第二N型注入区的另一部分和第三N型注入区之间的表面设有多晶硅栅极,所述第一P型注入区、第一N型注入区、第四N型注入区连接被保护管脚,所述多晶硅栅极、第三N型注入区、第二P型注入区、第三P型注入区接地端。 |
地址 |
201103 上海市闵行区合川路2679号虹桥国际商务广场2号楼603单元 |