| 发明名称 | 硅片清洗方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种硅片清洗方法，包括：提供待清洗硅片，对该硅片采用多重频率的超声波进行清洗。在不同的清洗时间段中对不同的超声波频率采用不同的功率，从而能够有效的增强湿法清洗工艺窗口。 | ||
| 申请公布号 | CN103736690A | 申请公布日期 | 2014.04.23 |
| 申请号 | CN201310753951.1 | 申请日期 | 2013.12.31 |
| 申请人 | 上海集成电路研发中心有限公司 | 发明人 | 胡正军;姚嫦娲;周炜捷 |
| 分类号 | B08B3/12(2006.01)I;B08B3/10(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I | 主分类号 | B08B3/12(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人 | 吴世华;林彦之 |
| 主权项 | 一种硅片清洗方法，其特征在于，包括：提供待清洗硅片，对该硅片采用多重频率的超声波进行清洗。 | ||
| 地址 | 201210 上海市浦东新区上海浦东张江高斯路497号 | ||