发明名称 静态磁场-激光同轴复合熔覆方法及装置
摘要 静态磁场-激光同轴复合熔覆方法及装置,属于激光加工技术领域。本发明涉及的静态磁场由电磁铁提供,并设计了一种装置实现磁场和激光束的同轴复合。在进行磁场-激光同轴复合熔覆时,磁场发生装置与激光束同轴同步移动,利用此装置可完成磁场和激光所致熔池流场的双场耦合,配合预置或同轴送粉方式完成激光熔覆过程,主要实现对激光所致熔池流动的平抑作用,从而达到调控凝固组织、改善熔覆层表面形貌、优化应力分布、减少熔覆过程中的飞溅现象等目的。本发明实现了磁场与激光的同轴同步运动,具有对熔覆层的调控能力好、适用面广、装置简单、便于推广等特点。
申请公布号 CN103741138A 申请公布日期 2014.04.23
申请号 CN201310755461.5 申请日期 2013.12.31
申请人 浙江工业大学 发明人 姚建华;王梁;张群莉;陈智君
分类号 C23C24/10(2006.01)I 主分类号 C23C24/10(2006.01)I
代理机构 杭州天正专利事务所有限公司 33201 代理人 王兵;黄美娟
主权项 静态磁场‑激光同轴复合熔覆的方法,按以下步骤完成:(1)将待熔覆基体表面进行打磨、清洗、干燥等预处理,然后将其通过夹具固定在工作台的合适位置;(2)在励磁线圈内通入1~5A直流电流,使励磁线圈内部的导磁铁芯上产生强度为0.2~1T的静态磁场;(3)将导磁铁芯的端面靠近基体表面,开启保护气、送粉器、激光器,执行熔覆程序,使熔覆区同时受到静态磁场的作用,磁场方向与基体表面垂直,并与激光束平行;由于高能激光束的作用,熔池内部发生强烈对流搅动,当导电流体的运动方向不与磁场方向平行时,即会产生与熔池对流方向相反的洛伦兹力,抑制熔池的流动;(4)所述激光熔覆的工艺为:光斑直径为4~6mm,送粉速度为0~20g/min,保护气体为氩气或氮气,气体流速为4~20L/h,激光功率为1~3kW,扫描速度为300~600mm/min。
地址 310014 浙江省杭州市下城区潮王路18号