真空蒸镀装置及蒸镀方法

摘要

本发明提供的一种真空蒸镀装置，包括真空腔体、设于真空腔体内的蒸镀源以及置于所述蒸镀源上方的固定单元，所述蒸镀源包括加热容器和加热单元，其中，所述加热容器包括从下到上依次设置的材料容器、蒸汽容器以及输出单元，所述材料容器与蒸汽容器之间的第一隔板上设有第一气孔，所述蒸汽容器与输出单元之间的第二隔板上设有第二气孔，所述第一气孔的面积大于所述第二气孔的面积。本发明提供的真空蒸镀装置通过局限材料蒸汽的运动路径、控制材料蒸汽喷射角度范围来减少基板以外不必要区域的材料损耗，从而提高材料的利用率，降低制造成本。

主权项

一种真空蒸镀装置，包括真空腔体、设于真空腔体内的蒸镀源（10）以及设于蒸镀源（10）上方的固定单元，所述蒸镀源（10）包括加热容器和加热单元（140），其特征在于，所述加热容器包括从下到上依次设置的材料容器（110）、蒸汽容器（120）以及输出单元（130），所述材料容器（110）与蒸汽容器（120）之间的第一隔板（112）上设有第一气孔（113），所述蒸汽容器（120）与输出单元（130）之间的第二隔板（122）上设有第二气孔（123），所述第一气孔（113）的面积大于所述第二气孔（123）的面积。