发明名称 |
遮光阵列透镜及其制造方法 |
摘要 |
一种遮光阵列透镜包含一个本体、多个光学有效区及一个遮光区,该本体包括一个顶面及一个底面,所述光学有效区设置于本体中且自顶面延伸至底面,光线可通过光学有效区,该遮光区自本体顶面向下凹入设置于本体中,该遮光区包括多个围绕界定光学有效区的内周面、一个邻近本体顶面周缘设置的外周面、一个界定于内周面与外周面间的容墨槽,及一个填于容墨槽中的遮光墨层,遮光墨层的厚度小于容墨槽的深度,由于填墨区域被限制而不会遮蔽光学有效区,且在容墨槽中的填墨位置可允许较大的位置偏移,降低对定位精密度的需求,确实能提高良率与降低成本。 |
申请公布号 |
CN103744133A |
申请公布日期 |
2014.04.23 |
申请号 |
CN201410022388.5 |
申请日期 |
2014.01.17 |
申请人 |
峻立科技股份有限公司 |
发明人 |
沈伟;李远林 |
分类号 |
G02B3/00(2006.01)I;G02B1/10(2006.01)I |
主分类号 |
G02B3/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京泰吉知识产权代理有限公司 11355 |
代理人 |
张雅军 |
主权项 |
一种遮光阵列透镜,包含一个本体及多个光学有效区,该本体包括一个顶面及一个底面,所述光学有效区设置于该本体中且自该顶面延伸至该底面,光线可通过所述光学有效区;其特征在于:该遮光阵列透镜还包含一个遮光区,该遮光区自该本体顶面向下凹入设置于该本体中,该遮光区包括多个围绕界定所述光学有效区的内周面、一个邻近该本体顶面周缘设置的外周面、一个界定于所述内周面与该外周面间的容墨槽,及一个填于该容墨槽中的遮光墨层,该遮光墨层的厚度小于该容墨槽的深度。 |
地址 |
中国台湾台中市 |