发明名称 遮光阵列透镜及其制造方法
摘要 一种遮光阵列透镜包含一个本体、多个光学有效区及一个遮光区,该本体包括一个顶面及一个底面,所述光学有效区设置于本体中且自顶面延伸至底面,光线可通过光学有效区,该遮光区自本体顶面向下凹入设置于本体中,该遮光区包括多个围绕界定光学有效区的内周面、一个邻近本体顶面周缘设置的外周面、一个界定于内周面与外周面间的容墨槽,及一个填于容墨槽中的遮光墨层,遮光墨层的厚度小于容墨槽的深度,由于填墨区域被限制而不会遮蔽光学有效区,且在容墨槽中的填墨位置可允许较大的位置偏移,降低对定位精密度的需求,确实能提高良率与降低成本。
申请公布号 CN103744133A 申请公布日期 2014.04.23
申请号 CN201410022388.5 申请日期 2014.01.17
申请人 峻立科技股份有限公司 发明人 沈伟;李远林
分类号 G02B3/00(2006.01)I;G02B1/10(2006.01)I 主分类号 G02B3/00(2006.01)I
代理机构 北京泰吉知识产权代理有限公司 11355 代理人 张雅军
主权项 一种遮光阵列透镜,包含一个本体及多个光学有效区,该本体包括一个顶面及一个底面,所述光学有效区设置于该本体中且自该顶面延伸至该底面,光线可通过所述光学有效区;其特征在于:该遮光阵列透镜还包含一个遮光区,该遮光区自该本体顶面向下凹入设置于该本体中,该遮光区包括多个围绕界定所述光学有效区的内周面、一个邻近该本体顶面周缘设置的外周面、一个界定于所述内周面与该外周面间的容墨槽,及一个填于该容墨槽中的遮光墨层,该遮光墨层的厚度小于该容墨槽的深度。
地址 中国台湾台中市
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