发明名称 一种场限环-负斜角复合终端结构
摘要 本发明公开了一种场限环-负斜角复合终端结构,将芯片的区域作为有源区,将有源区外围区域作为终端区,有源区和终端区共同的n<sup>-</sup>衬底下方设置有n型FS层,在n型FS层下方设置有p<sup>+</sup>阳极区及阳极;有源区中,n<sup>-</sup>基区中设置有多个并联的单元,每个单元内与n<sup>-</sup>基区相邻的是波状p基区,p基区上面为p<sup>+</sup>基区,p<sup>+</sup>基区设置有一个阴极n<sup>+</sup>发射区,每个n<sup>+</sup>发射区上方设有阴极;p<sup>+</sup>基区上方设有门极,并且整个门极环绕在所包围的阴极n<sup>+</sup>发射区的周围;在终端区的n<sup>-</sup>衬底内,在主结外侧设了至少一个p型场限环,并在场限环上面有一个负斜角,斜面上覆有钝化层。本发明的场限环-负斜角复合终端结构具有更好的高温稳定性。
申请公布号 CN103745987A 申请公布日期 2014.04.23
申请号 CN201310695943.6 申请日期 2013.12.17
申请人 西安理工大学 发明人 王彩琳;王一宇
分类号 H01L29/06(2006.01)I;H01L29/40(2006.01)I 主分类号 H01L29/06(2006.01)I
代理机构 西安弘理专利事务所 61214 代理人 李娜
主权项 一种场限环‑负斜角复合终端结构,其特征在于:将芯片的中央区域作为有源区,将有源区外围区域作为终端区,有源区和终端区共同的n<sup>‑</sup>衬底下方设置有n型FS层,在n型FS层下方设置有p<sup>+</sup>阳极区及其阳极;在有源区中,n<sup>‑</sup>基区中设置有多个并联的单元,每个单元内与n<sup>‑</sup>基区相邻的是波状p基区,p基区上面为p<sup>+</sup>基区,p<sup>+</sup>基区中央设置有一个阴极n<sup>+</sup>发射区,每个n<sup>+</sup>发射区上方设置有阴极;p<sup>+</sup>基区上方设置有门极,并且整个门极环绕在所包围的阴极n<sup>+</sup>发射区的周围;在终端区的n<sup>‑</sup>衬底内,在主结外侧设置了至少一个p型场限环,并且在场限环上面有一个负斜角,使得终端区上表面为斜面,斜面上覆有钝化层。
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