发明名称 |
基板清洗装置及研磨装置 |
摘要 |
一种基板清洗装置,具有:收容基板(W)的清洗槽(1);配置在清洗槽(1)内的基板保持部(2);将药液供给于由基板保持部(2)保持的基板(W)的药液喷嘴(5);以及将清洗液供给于清洗槽(1)内表面(1a)的多个清洗液喷嘴(7),对清洗槽(1)的内表面(1a)实施粗糙化处理、亲水性材料的涂层等的亲水化处理。采用本发明,可用廉价材料构成清洗槽,同时可防止药液对清洗槽的腐蚀。 |
申请公布号 |
CN103707179A |
申请公布日期 |
2014.04.09 |
申请号 |
CN201310461098.6 |
申请日期 |
2013.09.30 |
申请人 |
株式会社荏原制作所 |
发明人 |
前田幸次;下元博;中野央二郎 |
分类号 |
B24B37/34(2012.01)I;B24B37/00(2012.01)I |
主分类号 |
B24B37/34(2012.01)I |
代理机构 |
上海市华诚律师事务所 31210 |
代理人 |
梅高强;刘煜 |
主权项 |
一种基板清洗装置,其特征在于,具有:收容基板的清洗槽;配置在所述清洗槽内的基板保持部;将药液供给于所述基板的药液喷嘴,所述基板由所述基板保持部保持;以及将清洗液供给于所述清洗槽的内表面的多个清洗液喷嘴,对所述清洗槽的内表面实施亲水化处理。 |
地址 |
日本东京都大田区羽田旭町11番1号 |