发明名称 |
带电粒子射线装置 |
摘要 |
带电粒子射线装置具备:电子射线源(1);带电粒子光学系统,其包含物镜(9),将从所述电子射线源(1)放出的电子作为电子射线(2)来照射样本(10);像差校正器(6),其对该带电粒子光学系统的像差进行校正;和控制单元(24),其控制所述带电粒子光学系统和所述像差校正器(6)的各构成要素;在该带电粒子射线装置中,为了使发生在所述像差校正器(6)中的寄生像差的校正所需的时间较短,具备通过学自律地获得最佳的调整顺序的自动像差校正装置(17)。 |
申请公布号 |
CN103718267A |
申请公布日期 |
2014.04.09 |
申请号 |
CN201280036624.8 |
申请日期 |
2012.07.09 |
申请人 |
株式会社日立高新技术 |
发明人 |
秋间学尚;平山阳一 |
分类号 |
H01J37/153(2006.01)I;G05B13/02(2006.01)I;G06N3/00(2006.01)I |
主分类号 |
H01J37/153(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
王亚爱 |
主权项 |
一种带电粒子射线装置,具备:带电粒子射线源;带电粒子光学系统,其将从所述带电粒子射线源放出的带电粒子作为带电粒子射线来照射样本;像差校正器,其校正所述带电粒子光学系统的像差;和控制单元,其控制所述带电粒子光学系统和所述像差校正器的各构成要素,所述带电粒子射线装置的特征在于,还具备:自动像差校正装置,其通过学习自律地获得最佳的调整顺序。 |
地址 |
日本东京都 |