发明名称 |
一种孔径填充装置及方法 |
摘要 |
本发明涉及激光器相干合成领域,尤其是涉及一种利用叠加式分光干涉光路实现多路光束合成的孔径填充装置及方法。本发明针对现有技术存在的问题,提供一种孔径填充装置及方法实现多路激光光束相干合成,通过多个相干光束经过反射镜、分光镜、反馈电路等进行相位电压误差的控制,使多路相干光束合成为远场单一主瓣光束。本发明包括第一合成干涉光路、第二合成干涉光路,用于对输入的两路光信号进行功率合成;合成器,用于对第一合成干涉光路、第二合成干涉光路输出信号进行功率合成;第一分光镜,用于对合成器输出的光信号进行反射和透射;第一反馈电路,用于将分光镜反射的光信号进行反馈光信号调节。本发明主要应用于激光器相干合成领域。 |
申请公布号 |
CN102707438B |
申请公布日期 |
2014.04.09 |
申请号 |
CN201210214471.3 |
申请日期 |
2012.06.27 |
申请人 |
中国工程物理研究院流体物理研究所 |
发明人 |
王德田;陈光华;周维军;温伟峰;王荣波;彭其先;李泽仁 |
分类号 |
G02B27/10(2006.01)I;G05D25/02(2006.01)I |
主分类号 |
G02B27/10(2006.01)I |
代理机构 |
成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 |
代理人 |
徐宏;吴彦峰 |
主权项 |
一种孔径填充装置,其特征在于包括第一合成干涉光路、第二合成干涉光路,用于对输入的两路光信号进行功率合成;合成器,用于对第一合成干涉光路、第二合成干涉光路输出信号进行功率合成;第一分光镜,用于对合成器输出的光信号进行反射和透射;第一反馈电路,用于将分光镜反射的光信号进行反馈光信号调节,所述第一合成干涉光路、第二合成干涉光路分别包括第一光电相位调制器,用于对输入的第一光路信号进行相位调节;第一反射镜,用于反射第一电光相位调制器输出的光信号给第二分光镜;第二分光镜:用于分别反射第一反射镜折射的光信号,透射第二电光相位调制器的光信号形成第三光路;同时反射第二电光相位调制器的光信号给第二反射镜,透射第一反射镜折射的光信号给第二反射镜;第二反射镜,用于折射第二分光镜的折射光信号,同时折射第二分光镜透射的信号形成第四光路;第三分光镜,用于对第三光路信号进行反射和透射;第二反馈电路,用于对第三分光镜反射的光信号进行反馈光、信号调节。 |
地址 |
621900 四川省绵阳市游仙区绵山路64号 |