发明名称 Schichtanordnung, Heißgaspfadkomponente und Verfahren zur Herstellung einer Schichtanordnung
摘要 Es sind eine Schichtanordnung, eine Heißgaspfadkomponente und ein Verfahren zum Herstellen einer Schichtanordnung offenbart. Die Schichtanordnung enthält eine Substratschicht, eine Keramikmatrix-Verbundschicht und einen nicht-metallischen Abstandshalter zwischen der Substratschicht und der Keramikmatrix-Verbundschicht, der eingerichtet ist, um eine oder mehrere Taschen auszubilden. Die Heißgaspfadkomponente enthält eine Nickel-basierte Superlegierungsschicht, eine Keramikmatrix-Verbundschicht und einen keramischen Abstandshalter zwischen der Nickel-basierten Superlegierungsschicht und der Keramikmatrix-Verbundschicht. Der keramische Abstandshalter ist entweder an der Substratschicht oder an der Keramikmatrix-Verbundschicht oder an beiden mechanisch befestigt, und der keramische Abstandshalter ist mit der Substratschicht oder der Keramikmatrix-Verbundschicht haftend verbunden. Das Verfahren enthält ein Sichern eines nicht-metallischen Abstandshalters zwischen einer Substratschicht und einer Keramikmatrix-Verbundschicht der Schichtanordnung.
申请公布号 DE102013110381(A1) 申请公布日期 2014.04.03
申请号 DE201310110381 申请日期 2013.09.19
申请人 GENERAL ELECTRIC COMPANY 发明人 ZHANG, XIUZHANG JAMES;WANG, HAIPING
分类号 B32B3/10;B32B15/04;B32B18/00;F01D5/14;F01D5/18 主分类号 B32B3/10
代理机构 代理人
主权项
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