一种触摸屏用ITO靶材的生产方法

摘要

一种触摸屏用ITO靶材的生产方法，涉及一种ITO靶材的生产方法，以4N级（99.99%）铟锭和分析纯级结晶四氯化锡为原料，按配比计算出需要的用量，通过化学共沉淀、脱水、煅烧及球磨的现有工序制备In2O3:SnO2=97:3（wt%）、纯度≥99.99%、粒度为0.6～1.0µm的ITO粉；再对ITO粉经冷压成型为冷压坯；再将冷压坯装在石墨模具内置于真空-气氛热压烧结炉中烧结，得到ITO靶材，本发明制备的ITO靶材完整致密无内部裂纹，本发明方法简单，便于推广使用。

主权项

一种触摸屏用ITO靶材的生产方法，其特征在于：包括下述步骤：A.制备ITO粉：以铟锭和四氯化锡为原料，通过化学共沉淀、脱水、煅烧及球磨的工序制备得到重量百分比In2O3:SnO2=97:3 、纯度≥99.99%、粒度为0.6～1.0µm 的ITO粉；其中，所述的铟锭为4N级铟锭，所述的四氯化锡为分析纯级结晶四氯化锡；B.制备冷压坯：将上述步骤A中所得的ITO粉经44～50MPa压力下冷压成型为冷压坯；C.制备ITO靶材：将上述步骤B中所得到的冷压坯装在石墨模具内置于真空‑气氛热压烧结炉中烧结，制得ITO靶材，其中，烧结时真空‑气氛热压烧结炉内的真空度为1.0×10‑1Pa以上。