发明名称 |
缓冲结构及其应用该缓冲结构的电子装置 |
摘要 |
本发明提供一种缓冲结构,该缓冲结构设置于基层与外层之间,该缓冲结构包括缓冲层和背胶,该缓冲层通过该背胶黏附于该基层与外层上,该缓冲层和背胶都为分段式结构,该缓冲层具有第一断面,该第一断面将该缓冲层分割成缓冲段,该背胶具有第二断面,该第二断面将该背胶分割成背胶段,且该第二断面为非平面,其中,该第一断面与该第二断面为错位排布。 |
申请公布号 |
CN103700317A |
申请公布日期 |
2014.04.02 |
申请号 |
CN201310666656.2 |
申请日期 |
2013.12.10 |
申请人 |
苏州佳世达电通有限公司;佳世达科技股份有限公司 |
发明人 |
林彦诚 |
分类号 |
G09F9/00(2006.01)I;H04M1/02(2006.01)I |
主分类号 |
G09F9/00(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种缓冲结构,设置于基层与外层之间,该缓冲结构包括缓冲层和背胶,该缓冲层通过该背胶黏附于该基层与外层上,其特征在于,该缓冲层和背胶都为分段式结构,该缓冲层具有第一断面,该第一断面将该缓冲层分割成多个缓冲段,该背胶具有第二断面,该第二断面将该背胶分割成多个背胶段,且该第二断面为非平面,其中,该第一断面与该第二断面为错位排布。 |
地址 |
215011 江苏省苏州市高新区珠江路169号 |