发明名称 缓冲结构及其应用该缓冲结构的电子装置
摘要 本发明提供一种缓冲结构,该缓冲结构设置于基层与外层之间,该缓冲结构包括缓冲层和背胶,该缓冲层通过该背胶黏附于该基层与外层上,该缓冲层和背胶都为分段式结构,该缓冲层具有第一断面,该第一断面将该缓冲层分割成缓冲段,该背胶具有第二断面,该第二断面将该背胶分割成背胶段,且该第二断面为非平面,其中,该第一断面与该第二断面为错位排布。
申请公布号 CN103700317A 申请公布日期 2014.04.02
申请号 CN201310666656.2 申请日期 2013.12.10
申请人 苏州佳世达电通有限公司;佳世达科技股份有限公司 发明人 林彦诚
分类号 G09F9/00(2006.01)I;H04M1/02(2006.01)I 主分类号 G09F9/00(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种缓冲结构,设置于基层与外层之间,该缓冲结构包括缓冲层和背胶,该缓冲层通过该背胶黏附于该基层与外层上,其特征在于,该缓冲层和背胶都为分段式结构,该缓冲层具有第一断面,该第一断面将该缓冲层分割成多个缓冲段,该背胶具有第二断面,该第二断面将该背胶分割成多个背胶段,且该第二断面为非平面,其中,该第一断面与该第二断面为错位排布。
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