一种用于加速氧化硅生长在衬底表面上的化学组合物

摘要

本发明提供的一种用于加速氧化硅生长在衬底表面上的化学组合物，其特征在于：包括以下重量百分数的组分：氟硅酸或氟硅酸盐类化合物0.1-25％，氨基酸类化合物0.1-15%，铵类化合物0.05-15％，表面活性剂0.001-0.05％，余量为水。该辅助化学组合物制备工艺简单、成本低廉、使用方便、重复性好，将该辅助化学组合物应用于在硅片表面生成氧化硅，制得的硅片整面色泽均匀，硅片表面氧化膜分布均匀，该组合物特别适用于光伏、电子行业，可以大大降低氧化硅在衬底表面生长所需要的温度，大大降低生产成本。

主权项

一种用于加速氧化硅生长在衬底表面上的化学组合物，其特征在于：包括以下重量百分数的组分：氟硅酸或氟硅酸盐类化合物0.1‑25％，氨基酸类化合物0‑15%，铵类化合物0.05‑15％，表面活性剂0.001‑0.05％，余量为水。