发明名称 曝光装置及元件制造方法
摘要
申请公布号 TWI433209 申请公布日期 2014.04.01
申请号 TW093120588 申请日期 2004.07.09
申请人 尼康股份有限公司 日本 发明人 长坂博之
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人 桂齐恒 台北市中山区长安东路2段112号9楼;阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项
地址 日本