发明名称 |
多层光记录介质制造用片材、多层光记录介质以及粘合剂 |
摘要 |
多层光记录介质制造用片材1,其用于制造将光记录层11与粘合剂层12层叠而成的多层光记录介质10,由光记录层11与粘合剂层12层叠而成;粘合剂层12由以聚合物作为主成分的粘合剂构成,所述聚合物含有含氟单体和/或含硅单体作为构成单体成分,并且粘合剂层12不具有区域结构,或者具有区域的大小为110nm以下的区域结构;将聚合物中作为构成单体成分的单体总量设为100质量%时,含氟单体以及含硅单体的合计含量为10~100质量%。利用该多层光记录介质制造用片材1,在光记录层11与粘合剂层12的界面,可以检出充分强度的反射光,并且可以制造在粘合剂层12的散射光少,杂讯少的多层光记录介质。 |
申请公布号 |
CN103680534A |
申请公布日期 |
2014.03.26 |
申请号 |
CN201310454077.1 |
申请日期 |
2013.09.25 |
申请人 |
琳得科株式会社 |
发明人 |
伊藤雅春;山口征太郎;小曾根雄一 |
分类号 |
G11B7/24038(2013.01)I;G11B7/256(2006.01)I;G11B7/241(2006.01)I;C09J133/08(2006.01)I;C09J133/16(2006.01)I;C09J143/04(2006.01)I |
主分类号 |
G11B7/24038(2013.01)I |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 |
代理人 |
李英 |
主权项 |
多层光记录介质制造用片材,其用于制造将光记录层与粘合剂层层叠而成的多层光记录介质,其特征在于:由光记录层与粘合剂层层叠而成;所述粘合剂层由以聚合物作为主成分的粘合剂构成,所述聚合物含有含氟单体和/或含硅单体作为构成单体成分,并且所述粘合剂层不具有区域结构,或者具有区域的大小为110nm以下的区域结构;将所述聚合物中作为构成单体成分的单体总量设为100质量%时,所述含氟单体以及所述含硅单体的合计含量为10~100质量%。 |
地址 |
日本东京都 |