发明名称 |
叠层结构体、半导体制造装置用构件及叠层结构体的制造方法 |
摘要 |
一种叠层结构体(10),具备:以氮氧化铝镁为主相的第1结构体(12),以氮化铝为主相、含有具有石榴石型晶体结构的稀土类铝复合氧化物晶界相的第2结构体(14),存在于第1结构体(12)和第2结构体(14)之间的反应层(15),所述反应层(15)是稀土类铝复合氧化物晶界相(18)稀薄的氮化铝层。该叠层结构体(10)的反应层(15)的厚度在150μm以下。此外,叠层结构体(10)的第1结构体(12)与第2结构体(14)的线性热膨胀系数差在0.3ppm/K以下。叠层结构体(10)在第2结构体(14)烧成时,通过晶界相(18)向第1结构体(12)一侧扩散,由该晶界相(18)变得稀薄的扩散界面(17)形成反应层(15)。 |
申请公布号 |
CN103681793A |
申请公布日期 |
2014.03.26 |
申请号 |
CN201310410613.8 |
申请日期 |
2013.09.10 |
申请人 |
日本碍子株式会社 |
发明人 |
神藤明日美;井上胜弘;胜田祐司 |
分类号 |
H01L29/12(2006.01)I;H01L21/477(2006.01)I;H01L21/225(2006.01)I;C04B35/00(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/12(2006.01)I |
代理机构 |
上海市华诚律师事务所 31210 |
代理人 |
李晓 |
主权项 |
一种叠层结构体,包括第1结构体、第2结构体以及存在于所述第1结构体和所述第2结构体之间的反应层,所述第1结构体以氮氧化铝镁为主相,所述第2结构体以氮化铝为主相,含有具有石榴石型晶体结构的稀土类铝复合氧化物相,所述反应层是稀土类铝复合氧化物晶粒含量低于所述第2结构体的氮化铝层,所述反应层的厚度在150μm以下,所述第1结构体与所述第2结构体的线性热膨胀系数差在0.3ppm/K以下。 |
地址 |
日本爱知县名古屋市瑞穗区须田町2番56号 |