| 发明名称 | 一种化学机械抛光液 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种化学机械抛光液，其含有研磨颗粒、高碘酸和/或其盐、磷酸和/或其盐，以及水。所述的抛光液能显著提高钨的去除速率。 | ||
| 申请公布号 | CN101654598B | 申请公布日期 | 2014.03.26 |
| 申请号 | CN200810041994.6 | 申请日期 | 2008.08.22 |
| 申请人 | 安集微电子(上海)有限公司 | 发明人 | 王晨;杨春晓 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I;C23F1/26(2006.01)I;H01L21/321(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | 一种化学机械抛光液，其含有研磨颗粒、磷酸盐、高碘酸和/或其盐，以及水，其中，所述的磷酸盐为磷酸季铵盐，所述的季铵盐的氮原子上的取代基为碳原子数1～4的烷基中的一种或多种，且所述的取代基为甲基、乙基、丙基和丁基中的一种或几种。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 | ||