薄膜形成装置

摘要

本实用新型提供一种薄膜形成装置，减少因蒸发物质从收纳于真空容器的基板保持部件和真空容器内壁之间的间隙迂回进入而引起的真空容器内的污染和异物混入。薄膜形成装置（1）具备：真空容器（2）；基板保持部件（10），其收纳于真空容器内，用于保持基板（K）；和蒸镀源（3），其配置于基板保持部件（10）的下方位置。在基板保持部件（10）的外周下端部和真空容器内壁之间的间隙设置有防附着遮护部（20）。防附着遮护部（20）由配置于基板保持部件（10）的外周下端部的第1防附着遮护部（21）、和配置于真空容器的内壁面的第2防附着遮护部（22）构成。第1防附着遮护部配置成在上下方向上至少一部分与第2防附着遮护部重叠。

主权项

一种薄膜形成装置，其具备：真空容器；基板保持部件，其收纳于该真空容器内，用于保持基板；以及蒸镀源，其配置于该基板保持部件的下方位置，所述薄膜形成装置的特征在于，在所述基板保持部件的外周下端部和所述真空容器的内壁之间的间隙设置有防附着遮护部，该防附着遮护部具备第1防附着遮护部和第2防附着遮护部，所述第1防附着遮护部配置于所述基板保持部件的外周下端部，并向所述真空容器的内壁侧延伸，所述第2防附着遮护部配置于所述真空容器的内壁面，并向所述第1防附着遮护部侧延伸，所述第1防附着遮护部配置成在上下方向上至少一部分与所述第2防附着遮护部重叠。