一种AR膜和AF膜同炉镀膜设备及镀膜方法

摘要

本发明涉及一种AR膜和AF膜同炉镀膜设备，包括真空腔室、基片架系统和镀膜沉积系统，所述基片架系统位于所述真空腔室内部，所述基片架系统，包含多个可翻转的单根立柱；所述镀膜沉积系统，包含安装于真空腔室内壁上至少一对溅射阴极、离子源和位于基片架系统内侧的蒸发源。通过位于真空腔体的内壁上的溅射阴极对基片进行AR膜镀制，单根立柱将镀完增透膜的基片翻转到内侧通过蒸发源对基片进行AF膜的镀制，达到制作过程时间短，无需在AR制作完成后换一台镀膜机进行AF制作，提高了批量化制作时的良率以及产能的效果，且表面不易被污染。

主权项

一种AR膜和AF膜同炉镀膜设备，包括真空腔室、基片架系统和镀膜沉积系统，所述基片架系统位于所述真空腔室内部，其特征在于：所述基片架系统，包含多个可翻转的单根立柱；所述镀膜沉积系统，包含安装于真空腔室内壁上至少一对溅射阴极、离子源和位于基片架系统内侧的蒸发源。