| 摘要 |
<p>La présente invention concerne un procédé de traitement de surface d'un monocristal d'un matériau, permettant d'obtenir, après croissance à sa surface, des monocristaux de très haute qualité et présentant peu de défauts cristallins. L'invention concerne également l'utilisation d'un tel procédé pour la fabrication de composants électronique de puissance, de détecteurs de rayonnements de fortes énergies, de monochromateurs pour les rayonnements X synchrotron, de dispositifs optoélectroniques, et de dispositifs électroniques performants.</p> |
