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经营范围
发明名称 微影装置及元件制造方法
摘要
申请公布号 TWI431435 申请公布日期 2014.03.21
申请号 TW100106085 申请日期 2011.02.23
申请人 ＡＳＭＬ荷兰公司 荷兰 发明人 德　贾格　皮耶特　威廉　荷曼;昂夫里　乔汉斯;范　兹维　爱尔恩　约翰
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址 荷兰
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