光刻设备、投影组件、组合装置以及主动阻尼方法

摘要

本发明公开了一种光刻设备、投影组件、组合装置以及主动阻尼方法。该光刻设备包括：照射系统，配置用于调节辐射束；支撑件，用以支撑图案形成装置；衬底台，构造用于保持衬底；以及投影系统，配置成将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上。该光刻设备进一步包括主动阻尼系统，用以阻尼投影系统的至少一部分的振动。该主动阻尼系统包括传感器和致动器的组合装置，该传感器用于测量投影系统的位置量，而该致动器依赖于该传感器所提供的信号对该投影系统施加力。该主动阻尼系统连接到阻尼块，该阻尼块连接到该投影系统。

主权项

一种投影组件，包括：投影系统，配置成将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上；主动阻尼系统，用以抑制投影系统的至少一部分的振动，所述主动阻尼系统包括传感器和致动器的组合装置，所述传感器用于测量投影系统的位置量，而所述致动器基于所述传感器所提供的信号对所述投影系统施加力；阻尼块，所述主动阻尼系统连接到所述阻尼块，所述阻尼块连接到所述投影系统，使得分别由所述传感器和所述致动器所观测到的投影系统的传递函数与分别由所述传感器和所述致动器直接观测所述投影系统的情况相比被改变。